CMC Materials, Inc.(NASDAQ:CCMP)创立于1999年，前称Cabot Microelectronics Corporation(卡伯特微电子公司or嘉柏微电子材料公司)，总部位于美国伊利诺伊州Aurora，全职雇员2200人，连同其子公司，开发，制造和销售用于制造半导体工业中的先进集成电路（IC）器件的化学机械平坦化（CMP）工艺的抛光浆料和焊盘/研磨垫。
CMC Materials, Inc.(CCMP)美股百科
Cabot Microelectronics Corporation提供CMP浆料（化学机械平坦化研磨液），这是一种由高纯度去离子水，专有化学添加剂和工程磨料组成的液体溶液，它们在原子水平上与IC器件的表面材料发生化学和机械相互作用；和CMP研磨，这是一种工程聚合物材料，设计用于将浆料分配和输送到晶片表面并将其均匀地分布在晶片上。
嘉柏微电子公司的CMP浆料（研磨液）用于抛光各种传导电信号的材料，包括钨，铜，钽和铝；以及用于制造硬盘驱动器的刚性盘和磁头的各种材料，以及用于在逻辑和存储器IC器件内分离导电层的介电绝缘材料中使用的各种材料。
嘉柏微电子材料公司开发/生产和销售的CMP研磨液用于抛光在IC器件中使用的许多导电和绝缘材料，也可用于抛光在硬盘驱动器中使用的磁盘基片和磁头。
嘉柏微电子还设计和生产精密抛光和计量系统，以在各种光学元件（如镜子，透镜和棱镜）上获得近乎完美的形状和表面光洁度。
Cabot Microelectronics Corporation直接为逻辑IC器件或存储器IC器件的制造商以及IC代工服务提供商以及分销商提供服务。
2022年3月3日，CMC Materials（CCMP）与材料科学公司Entegris（ENTG）的合并交易已获得股东批准。如前所述，Entegris 计划以现金和股票交易的方式收购 CMC Materials，企业价值约为 $6.5B。
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