工业设备制造：CVD设备 CVD Equipment Corporation(CVV)

CVD设备公司CVD Equipment Corporation(NASDAQ:CVV)创立于1982年，总部位于美国纽约州Central Islip，全职雇员113人，是一家在美国和国际间开发，制造和销售用于研究和工业应用的材料和涂料的设备和工艺解决方案的公司。

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CVD Equipment Corporation为研发，试验和生产应用设计，开发和制造工艺设备解决方案。产品包括一系列完整的交钥匙解决方案，如化学气相沉积系统，气体和液体输送柜，气体面板和相关的气体减排系统。 CVD Equipment Corporation的总部和应用实验室位于美国纽约长岛。

CVD Equipment Corporation通过两个部分运作：CVD / First Nano和SDC。

CVD设备公司提供化学气相沉积系统，用于航空航天和医疗元件，半导体，LED，碳纳米管，纳米线，太阳能电池和其他工业应用的研究，开发和制造；和快速热处理系统，用于植入物活化，氧化，硅化物形成和其他过程。

CVD设备公司还提供退火，扩散和低压化学气相沉积炉，用于扩散，氧化，注入退火，回流焊，太阳能电池制造和其他工艺;和气体和液体控制系统，包括气瓶储存柜，定制气体和化学品输送系统，气体和液体阀门歧管盒，以及用于半导体制造工艺，太阳能电池，LED，碳纳米管，纳米线和各种工业应用的气体隔离盒。

此外，CVD设备公司还提供标准和定制的石英制品，用于其设备和其他客户工具，以及现有石英制品的维修和更换服务。

再者，CVD设备公司提供MesoPlasma直接写入打印，这是一种材料沉积工艺，可在共形元件上提供迹线，图案和涂层; 和Tantaline耐腐蚀涂层，适用于阀门，配件，紧固件，容器，波纹管和各种定制设计的物品。

CVD Equipment Corporation主要向电子元件制造商，大学，政府和工业实验室以及需要专门涂层的航空航天和医疗行业销售其产品。

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